B - Operations – Transporting – 23 – K
Patent
B - Operations, Transporting
23
K
B23K 26/06 (2006.01)
Patent
CA 2156200
An excimer laser beam irradiation apparatus capable of processing a workpiece optimally with an excimer irradiation beam even when intensity distribution of the excimer laser beam undergone multiple reflections is non-uniform. A patterning mask has light-transmissive portions for allowing the excimer laser beam to pass through and a reflecting layer for reflecting it. A high reflectivity mirror disposed in opposition to the reflecting layer reflects the excimer laser beam reflected from the reflecting layer toward the patterning mask. An imaging lens images a pattern of the excimer laser beam transmitted through the patterning mask onto a workpiece for irradiation thereof. A workpiece moving mechanism and a mask moving mechanism move the workpiece and the mask moving mechanism, respectively. A control unit controls the workpiece moving mechanism and the mask moving mechanism such that the patterning mask and the workpiece are displaced along a same axis synchronously with each other in a scan moving direction which coincides with a direction in which the excimer laser beam shifts positionally while being reflected between the patterning mask and the reflecting means, for thereby allowing the workpiece to be scanned with the excimer laser beam. The workpiece can be processed uniformly and stably in accordance with a pattern of the patterning mask with high accuracy and reliability.
Cette invention concerne un irradiateur à faisceau laser à excimères adapté pour le traitement optimal d'une pièce malgré une répartition inégale de l'intensité du faisceau attribuable aux réflexions multiples de celui-ci. Il comporte un masque de décomposition du faisceau ayant des parties transparentes laissant passer le faisceau et une partie réfléchissante qui le renvoie vers un miroir à haute réflectivité disposé en vis-à-vis et ayant pour fonction de réfléchir à nouveau le faisceau vers le masque susmentionné. Une lentille sert à reporter sur la pièce à traiter le motif d'irradiation défini par ledit masque de décomposition. Un mécanisme de déplacement de la pièce et un mécanisme de déplacement du masque déplacent ces deux éléments l'un par rapport à l'autre sous la commande d'un dispositif réglé pour synchroniser le déplacement de la pièce et du masque le long d'un même axe de balayage qui coïncide avec la direction vers laquelle le faisceau laser est dévié par réflexions multiples entre le masque et le miroir précités. Ainsi, toute la pièce est balayée par le faisceau de façon uniforme et stable, selon le motif d'irradiation défini par le masque avec une précision et une répétabilité élevées.
Ito Keiko
Minagawa Tadao
Murakami Kazuyuki
Nakatani Hajime
Sugitatsu Atsushi
Marks & Clerk
Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
LandOfFree
Laser beam irradiation apparatus with high accuracy and... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Laser beam irradiation apparatus with high accuracy and..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Laser beam irradiation apparatus with high accuracy and... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1795338