C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 20/36 (2006.01) C07D 495/10 (2006.01) C07D 517/10 (2006.01) C08F 20/38 (2006.01) C09K 9/02 (2006.01)
Patent
CA 2051394
A compound comprising 0.001 to 100 mole percent of a structural unit of the formula Image wherein W is -CMe2- or -Se-, R1 is C1-C20 alkyl or aralkyl, R2 to R5 each represents H, C1-C6 alkyl, etc., R6 and R7 each represents H, C1-C6 alkyl, etc., X is O or S, provided that when W is -CMe2-, X is S, and 0 to 99.999 mole percent of a structural unit of the formula Image wherein Y is H or Me and Z represents alkoxycarbonyl, phenyl, etc.
Composé spiropyranique à poids moléculaire élevé constitué de 0,001 à 100 moles % d'unités structurales de formule générale (I) dans laquelle W représente -CMe2- ou bien -Se-, R1 représente alkyle C1 à C20 ou aralkyle, R2 à R5 représentent chacun H, alkyle C1 à C6, etc., R6 et R7 représentent chacun H, alkyle C1 à C6, etc., et X représente O ou S, à condition que X représente S lorsque W représente -CMe2-, et de 0 à 99,999 moles % d'unités structurales de formule générale (II) dans laquelle Y représente H ou Me et Z représente alkoxycarbonyle, phényle, etc.
Cassan Maclean
Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1430140