C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) H01J 37/34 (2006.01)
Patent
CA 2420243
The invention concerns a method and a device for depositing a metal coating on a substrate (1) which consists in a cold plasma deposition inside a heated confinement chamber (7) so as to avoid the formation of a metal deposit at its surface, said chamber (7) having an inlet orifice (21) and an outlet orifice (22) through which the substrate to be coated enters and leaves said chamber, a metal vapour source, forming an electrode, being provided in said chamber enabling the formation of plasma (6) therein, a counter-electrode being formed by the substrate (1) or by a separate electrically conducting element. The invention is characterised in that it consists in introducing the metal, with which a metal coating is to be formed on the substrate (1), in molten state in a retention tank (8) communicating with the confinement chamber (7) and in maintaining the molten metal in said tank (8) at a substantially constant level while the metal coating is being formed.
L'invention est relative à un procédé et un dispositif pour le dépôt d'une couche métallique sur un substrat (1) suivant lequel on réalise le dépôt par plasma froid à l'intérieur d'une enceinte de confinement (7) chauffée de manière à éviter la formation d'un dépôt métallique à sa surface, cette enceinte (7) présentant une ouverture d'entrée (21) et une ouverture de sortie (22) par lesquelles le substrat (1) à revêtir entre et sort de celle-ci, une source de vapeur métallique, constituant une électrode, étant prévue dans cette enceinte permettant la formation du plasma (6) dans cette dernière, une contre-électrode étant formée par le substrat (1) ou par un élément conducteur d'électricité séparé. L'invention est caractérisé en ce que l'on introduit le métal, dont il y a lieu de former la couche métallique sur le substrat (1), à l'état liquide dans un bac de rétention (8) communiquant avec l'enceinte de confinement (7) et à ce que l'on maintient le métal liquide dans ce bac (8) à un niveau sensiblement constant durant la formation de cette couche métallique.
Vanden Brande Pierre
Weymeersch Alain
Fetherstonhaugh & Co.
Sprl Cold Plasma Applications Cpa
LandOfFree
Method and device for continuous cold plasma deposition of... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Method and device for continuous cold plasma deposition of..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Method and device for continuous cold plasma deposition of... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1601161