C - Chemistry – Metallurgy – 23 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
F
C23F 4/00 (2006.01) C21D 1/38 (2006.01) C21D 1/56 (2006.01) C21D 9/56 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23G 3/02 (2006.01) C23G 5/00 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01) H01J 37/34 (2006.01)
Patent
CA 2423138
The invention concerns a method for treatment, in particular for cleaning and/or heating, a metal substrate (1) moving substantially continuously in a vacuum chamber (3) having a treatment zone wherein an electric discharge (10), that is a plasma, and a magnetic field are produced in a gas maintained at a pressure lower than atmospheric pressure between at least the substrate (1) forming an electrode, and at least a counter electrode (9) so that the substrate (1) is bombarded with ions produced in the electric discharge (10). Said method is characterised in that a magnetic confinement induction field is generated all around the substrate (1) in the treatment zone so that the electric discharge (10) is likewise confined all around the substrate (1) in said treatment zone by the confinement of the electrons released in the electric discharge (10).
L'invention est relative à un procédé de traitement, notamment de nettoyage et/ou de chauffage, d'un substrat métallique (1) défilant d'une manière sensiblement continue dans une chamber à vide (3) présentant une zone de traitement dans laquelle une décharge électrique (10), c.à.d. un plasma, et un champ magnétique sont produits dans un gaz maintenu à une pression inférieure à la pression atmosphérique entre un moins le substrat (1), formant une électrode, et au moins une contre-électrode (9) afin que le substrat (1) puisse être bombardé par des ions produits dans la décharge électrique (10). Ce procédé est caractérisé en ce qu'un champ d'induction magnétique de confinement est réalisé tout autour du substrat (1) dans la zone de traitement de sorte que la décharge électrique (10) est également confinée tout autour du substrat (1) dans cette zone de traitement par le confinement l'électrons libérés dans la décharge électrique (10).
Vanden Brande Pierre
Weymeersch Alain
Cold Plasma Applications
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1393192