G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/20 (2006.01) C23C 18/14 (2006.01) H05K 3/10 (2006.01)
Patent
CA 2196770
A photoresist-free method for making patterned films of metal oxides, metals, or other metal containing compounds is described. The method involves applying an amorphous film of a metal complex to a substrate. The film may be conveniently applied by spin coating using standard industry techniques. The metal complex used is photoreactive and undergoes a low temperature chemical reaction in the presence of light of a suitable wavelength. The end product of the reactions depends upon the atmosphere in which the reactions take place. Metal oxide films may be made in air. Patterned films may be made by exposing only selected portions of the film to light. Patterns of two or more materials may be laid down from the same film by exposing different parts of the film to light in different atmospheres. The resulting patterned film is generally planar. Separate planarization steps are not generally required.
La présente invention concerne un procédé sans photoréserve de fabrication de films à motifs d'oxydes métalliques, de métaux ou de tout autre métal comportant des composés. Le procédé consiste à appliquer sur un substrat un film amorphe d'un complexe métallique. Il peut s'avérer pratique de procédér à une application dudit film par centrifugation en utilisant des techniques industrielles classiques. Le complexe métallique est photosensible et il subit une réaction chimique à basse température sous l'effet d'une lumière de longueur d'onde appropriée. Le produit final résultant de ces réactions dépend de l'atmosphère dans laquelle les réactions se produisent. Les films d'oxydes métalliques peuvent être faits à l'air. Les films à motifs peuvent être obtenus en exposant à la lumière seulement certaines portions sélectionnées du film. Il est possible de déposer des motifs de deux matières différentes, ou plus, à partir du même film, en exposant à la lumière des parties différentes du film dans des atmosphères différentes. Le film à motifs produit est généralement plan. De manière générale, il n'est pas nécessaire de procéder à des opérations séparées de rectification de surface.
Avey Alfred Arthur Jr.
Blair Sharon Louise
Chu Chu-Hui Winnie
Gao Meihua
Hill Ross Henry
Oyen Wiggs Green & Mutala Llp
Simon Fraser University
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1593625