Method for doping material and doped material

C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C

Patent

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Details

C03C 17/09 (2006.01) C30B 25/02 (2006.01)

Patent

CA 2568002

The invention relates to a method for doping material, the method being characterized by depositing at least one dopant deposition layer or a part thereof on the surface of the material and/or on a surface of a part or parts thereof with the atom layer deposition (ALD) method, and further processing the material coated with a dopant in such a manner that the original structure of the dopant layer is changed to obtain new properties for the doped material. The material to be doped is preferably glass, ceramic, polymer, metal, or a composite material made thereof, and the further processing of the material coated with the dopant is a mechanical, chemical, radiation, or heat treatment, whereby the aim is to change the refraction index, absorbing power, electrical and/or heat conductivity, colour, or mechanical or chemical durability of the doped material.

L'invention concerne un procédé de dopage de matériau. Ce procédé est caractérisé par le dépôt d'au moins une couche de dépôt de dopant ou d'une partie de celle-ci sur la surface du matériau et/ou sur la surface d'une partie ou de plusieurs parties de celui-ci au moyen du procédé de dépôt de couche atomique (ALD), puis par le traitement du matériau revêtu d'un dopant effectué de manière que la structure originale de la couche de dopant se modifie afin de conférer de nouvelles propriétés au matériau dopé. Le matériau à doper est constitué de préférence de verre, de céramique, de polymère, de métal ou d'un matériau composite contenant ces éléments; un traitement ultérieur du matériau revêtu de dopant étant un traitement mécanique, chimique, par rayonnements ou thermique, de manière à modifier l'indice de réfraction, le pouvoir d'absorption, la conductivité électrique et/ou thermique, la durabilité de la couleur, la durabilité mécanique ou chimique du matériau dopé.

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