Method for the production of opaque quartz glass, sio2...

C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C

Patent

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Details

C03C 3/06 (2006.01) C03B 19/10 (2006.01) C03C 1/02 (2006.01)

Patent

CA 2395501

The invention relates to a method for the production of opaque quartz glass wherein a blank is made from synthetic SiO2 crystals and heated to form a blank body made of opaque quartz glass at a given vitrification temperature. A method for the production of pure, opaque quartz glass is disclosed wherein said quartz glass has a homogeneous pore distribution and a high density, a high viscosity and a lower tendency to devitrify. According to the invention, the SiO2 crystals are formed from an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles (21; 31) having a specific surface (according to BET) between 1.5 m2/g and 40 m2/g with a stamping density of at least 0.8 g/cm3. SiO2 granulate (21; 31) suitable for use in performing the procedure is characterized in that it is composed of an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles and has a specific surface (according to BET) between 1.5 m2/g and 40 m2/g in addition to a stamping density of at least 0.6 g/cm3.

Selon un procédé connu de fabrication de verre de quartz opaque, une ébauche est formée à partir de granulés synthétiques de SiO¿2? et chauffée à une température de vitrification, produisant un corps façonné en verre de quartz opaque. Sur la base de ce principe, l'objectif de l'invention est un procédé de fabrication de verre de quartz opaque pur, qui présente à la fois une répartition homogène des pores et une densité élevée, une viscosité élevée et une faible propension à la dévitrification. Cet objectif est atteint par le fait que le granulé (21; 31) de SiO¿2? utilisé est formé d'un agglomérat au moins en partie poreux de particules primaires de SiO¿2?, ce granulé ayant une surface spécifique (conformément à BET) allant de 1,5 m?2¿/g à 40 m?2¿/g et une densité à l'état tassé d'au moins 0,8 g/cm?3¿. Un granulé (21; 31) de SiO¿2? adapté à la réalisation dudit procédé se caractérise en ce qu'il est formé d'un agglomérat au moins en partie poreux de particules primaires de SiO¿2?, et en ce qu'il présente une surface spécifique (conformément à BET) allant de 1,5 m?2¿/g à 40 m?2¿/g et une densité à l'état tassé d'au moins 0,6 g/cm?3¿.

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