C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/35 (2006.01) H01J 37/34 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01)
Patent
CA 2089645
A plasma confining magnetic field (202,302) is generated over the sputtering region (105,106) of a sputtering target (40) with a critical field line (202b,302b) which determines the shape of the plasma (204,304). The critical field line is progressively flattened over the course of the life of the target as the target erodes. Preferably, the magnet (51,52) is configured with poles (57,61,65) spaced around the portion of the target below the sputtering region to provide a magnetic field that flattens as its strength decreases. A regulated power supply (122), maintains a regulated power level that is increased as the target erodes to maintain a constant deposition rate. The voltage delivered by the power supply is maintained at or above a constant level by progressively decreasing the current to an electromagnet (52,54) to progressively reduce the field strength and flatten the field. As a result of the invention, the erosion groove of the target is broadened and the number of wafers coated by the target during its life is increased.
Champ magnétique (202, 302), permettant de confiner le plasma, généré dans une zone de pulvérisation (105, 106) d'une cible de pulvérisation (40) avec une ligne de champ critique (202b, 302b) qui détermine la forme du plasma (204, 304). La ligne de champ critique est progressivement aplanie pendant la durée de vie de la cible au fur et à mesure qu'elle s'érode. L'aimant (51, 52) comprend de préférence des pôles (57, 61, 65) espacés autour de la partie de la cible située sous la zone de pulvérisation afin de créer un champ magnétique qui s'aplatit au fur et à mesure qu'il perd de son intensité. L'alimentation stabilisée (122) maintient un niveau stable qui est augmenté au fur et à mesure que la cible s'érode afin de conserver un taux de dépôt constant. La tension de l'alimentation électrique est maintenue à une valeur égale ou supérieure à un niveau constant en diminuant progressivement le courant qui alimente un électro-aimant (52, 54) afin de réduire progressivement l'intensité du champ et de l'aplatir. La présente invention permet d'élargir le sillon de la cible et d'accroître la quantité de plaquettes enduites par la cible durant sa durée de vie.
Aronson Arnold J.
Hurwitt Steven D.
Van Nutt Charles
Macrae & Co.
Tokyo Electron Limited
LandOfFree
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