G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/42 (2006.01) C11D 3/395 (2006.01) C11D 7/32 (2006.01) C11D 11/00 (2006.01)
Patent
CA 2555665
Microelectronic cleaning compositions for cleaning microelectronic substrates, and particularly cleaning compositions useful with and having improved compatibility with microelectronic substrates characterized by silicon dioxide, sensitive low-.kappa. or high-.kappa. dielectrics and copper, tungsten, tantalum, nickel, gold, cobalt, palladium, platinum, chromium, ruthenium, rhodium, iridium, hafnium, titanium, molybdenum, tin and other metallization, as well as substrates of Al or Al(Cu) metallizations and advanced interconnect technologies, are provided by microelectronic cleaning compositions comprising halogen acids, salts and derivatives thereof.
L'invention concerne des compositions de nettoyage micro-électronique conçues pour nettoyer des substrats micro-électronique et, plus précisément, des compositions pouvant servir et présentant une meilleure compatibilité avec des substrats micro-électronique se caractérisant par du dioxyde de silicium, des structures diélectriques à faible ou haute constante .kappa. et du cuivre, du tungstène, du tantale, du nickel, de l'or, du cobalt, du palladium, du platine, du chrome, du ruthénium, du rhodium, de l'iridium, du hafnium, du titane, du molybdène, de l'étain et autre métallisation, ainsi que des substrats de métallisations Al ou Al(Cu) et des technologies d'interconnexion avancées, ces compositions comprenant des acides halogénés, des sels et des dérivés de ceux-ci.
Avantor Performance Materials Inc.
Mallinckrodt Baker Inc.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1418441