C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 297/04 (2006.01) C08L 53/02 (2006.01)
Patent
CA 2545747
We disclose a monovinylarene/conjugated diene block copolymer, comprising: (i) a random (conjugated dieneX/monovinylareney)m block, wherein x is about 2.5 wt% to about 10 wt%, y is from about 90 wt% to about 97.5 wt%, and x + y is about 97.5 wt% to 100 wt%; and (ii) a (conjugated dime)n block; wherein n is from about 20 wt% to about 30 wt%, m is from about 70 wt% to about 80 wt%, and m + n is from about 90 wt% to 100 wt%. We also disclose a method of forming the block copolymer and a method for fabricating an article from the block copolymer. The block copolymer typically exhibits a Tg at least about 10~C less than the Tg of a reference polymer differing only in that x is about 0 wt% and y is about 100 wt%.
L'invention concerne une copolymère bloc de diène conjugué/monovinylarène comprenant: (i) un bloc (diène¿x? conjugué/monovinylarène¿y?)¿m? aléatoire, x représentant environ 2,5 à environ 10 %, y environ 90 % à environ 97,5 %, et x + y environ 97,5 à 100 %; et (ii) un bloc (diène conjugué)¿n?, n représentant environ 20 % à environ 30 %, m environ 70 % à environ 80 %, et m+n environ 90 % à 100 %. L'invention porte également sur un procédé de formation du copolymère bloc et sur un procédé de fabrication d'un article à partir du copolymère bloc. Ce copolymère bloc possède une T¿g? d'au moins environ 10 ·C de moins que celle d'un polymère de référence différant seulement en ce que x représente environ 0 % et y environ 100 %.
Hottovy John D.
Nash Larry L.
Stacy Nathan E.
Chevron Phillips Chemical Company Lp
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1833930