C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 213/74 (2006.01) A61K 31/44 (2006.01) A61K 31/4965 (2006.01) C07D 241/20 (2006.01)
Patent
CA 2671993
A compound having the following formula (I) : wherein - R1is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, cyclo (lower) alkyl, cyclo (higher) alkyl, optionally substituted aryl, optionally substituted heterocyclyl, or aryl-fused cyclo (lower) alkyl, R2 is hydrogen or halogen, Z is CH or N, X is formula (II) R3 is lower alkyl which may be substituted with -OH or optionally substituted aryl, or lower alkanoyl, R4 is hydrogen or lower alkyl, Y is optionally substituted lower alkylene, or a salt thereof. The compound is useful as a histone deacetylase inhibitor.
La présente invention concerne un composé de formule (I) : dans laquelle R1 représente hydrogène, alkyle inférieur éventuellement substitué, cycloalkyle (inférieur), cycloalkyle (supérieur), aryle éventuellement substitué, hétérocyclyle éventuellement substitué ou cycloalkyle (inférieur) fusionné avec un aryle, R2 représente hydrogène ou halogène, Z représente CH ou N, X est de formule (II), R3 représente alkyle inférieur pouvant être substitué par -OH ou par aryle éventuellement substitué, ou alcanoyle inférieur, R4 représente hydrogène ou alkyle inférieur, Y représente alkylène inférieur éventuellement substitué, ou un sel de ce composé. Ledit composé est utilisé comme inhibiteur d'histone désacétylase.
Eikyu Yoshiteru
Inoue Yoshikazu
Shirai Fumiyuki
Astellas Pharma Inc.
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1726281