C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 413/14 (2006.01) A61K 31/4439 (2006.01) A61K 31/497 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) C07D 401/12 (2006.01) C07D 403/12 (2006.01) C07D 417/12 (2006.01) A61K 31/337 (2006.01)
Patent
CA 2657469
Disclosed is a compound represented by the general formula [I] below or a pharmaceutically acceptable salt or ester thereof. (I) (In the formula, R1 represents a hydrogen atom, F, CN or the like; R1' represents a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group; R2 represents O, S, SO, SO2 or the like;R3 represents an optionally substituted phenyl group; X1, X2 and X3 independently represent CH, N or the like, provided that none or one of X1, X2 and X3 is N; and W represents a group represented by the following formula: , wherein W1, W2 and W3 independently represent CH, N or the like.)
L'invention concerne un composé représenté par la formule générale [I] ci-dessous ou un de ses sels ou esters pharmaceutiquement acceptables. (I) (Dans la formule, R<SUB>1</SUB> représente un atome d'hydrogène, F, CN ou analogue ; R<SUB>1</SUB>' représente un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle inférieur éventuellement substitué ; R<SUB>2</SUB> représente O, S, SO, SO<SUB>2</SUB> ou analogue ; R<SUB>3</SUB> représente un groupement phényle éventuellement substitué ; X<SUB>1</SUB>, X<SUB>2</SUB> et X<SUB>3</SUB> représentent indépendamment CH, N ou analogue, à condition qu'aucun ou un seul des radicaux X<SUB>1</SUB>, X<SUB>2</SUB> et X<SUB>3</SUB> représente N ; et W représente un groupement représenté par la formule suivante : , dans laquelle W<SUB>1</SUB>, W<SUB>2</SUB> et W<SUB>3</SUB> représentent indépendamment CH, N ou analogue.)
Iwasawa Yoshikazu
Kato Tetsuya
Kawanishi Nobuhiko
Masutani Kouta
Mita Takashi
Banyu Pharmaceutical Co. Ltd.
Msd K.k.
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1743715