C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 7/18 (2006.01) A61K 31/695 (2006.01)
Patent
CA 2168962
The invention relates to novel substituted propane-2-ol derivatives of formula (I), wherein R1 represents a C1-10alkyl group, a phenyl group or a phenyl-C1-6alkyl group, and the phenyl moiety of the two latter groups may carry at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom, C1-6alkoxy group, phenyl group, phenoxy group and trifluoromethyl group; R2 represents a hydrogen atom, a C1- 10alkyl group or a phenyl group; R3 and R4 represent, independently from each other, a C1- 10alkyl or phenyl group; X represents a hydrogen atom, halogen atom or a group of formula (A); and in these formulae Y1 and Y2 represent, independently from each other, a -N= atom or a group of the formula -CH=, and optical antipodes and racemates thereof, further to pharmaceutical compositions of fungicidal action, containing such compounds, processes for the preparation of these compounds and compositions, finally to a method of treatment by using these compounds and compositions.
L'invention concerne des nouveaux dérivés de propan-2-ol de formule (I), dans laquelle R1 représente un groupe alkyle C1-C10, un groupe phényle ou un groupe phénylalkyle C1-6, la fraction phényle des deux derniers groupes pouvant comporter au moins un substituant choisi dans le groupe comprenant un atome d'halogène, un groupe alcoxy C1-6, un groupe phényle, un groupe phénoxy et un groupe trifluorométhyle; R2 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle C1-10 ou un groupe phényle; R3 et R4 représentent indépendamment un groupe alkyle C1-10 ou phényle; X représente un atome d'hydrogène, un atome d'halogène ou un groupe de formule (A), dans laquelle Y1 et Y2 représentent indépendamment un atome -N= ou un groupe de formule -CH=. L'invention porte également sur des antipodes optiques et des racemates desdits composés, des compositions pharmaceutiques à action fongicide contenant lesdits composés, les procédés de préparation de ces composés et compositions ainsi que sur une méthode de traitement dans laquelle ces derniers sont utilisés.
Czibula Laszlo
Deutsch Ida
Farkas Maria
Hegedus Istvan
Kreidl Janos
Fetherstonhaugh & Co.
Richter Gedeon Vegyeszeti Gyar Rt.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1610680