C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/42 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/48 (2006.01) H05B 33/10 (2006.01) H05B 33/22 (2006.01)
Patent
CA 2590400
The present invention relates to novel thiosilicate phosphor compositions. The invention is further a physical vapour deposition method for the deposition of rare earth activated thiosilicate phosphor compositions comprising providing at least one or more source materials where the source materials may comprise a barium silicon alloy, an intermetallic barium silicon compound, a protected barium metal and combinations thereof; providing an activator species; and effecting deposition of the one or more source materials and activator species as a thin film phosphor composition on a selected substrate. The method allows for the deposition of blue thin film electroluminescent phosphors with high luminance and colors required for TV applications.
La présente invention concerne de nouvelles compositions de thiosilicate phosphore ainsi qu'un procédé de dépôt par évaporation sous vide physique destiné au dépôt de compositions de thiosilicate phosphore activées par terres rares, consistant à se munir d'au moins un matériau source pouvant comporter un alliage de baryum silicium, un composé de baryum silicium intermétallique, un métal de baryum protégé et des combinaisons de ceux-ci ; à se munir d'une espèce d'activateur ; et à réaliser le dépôt du ou des matériaux sources et de l'espèce d'activateur en tant que composition de phosphore en couche mince sur un substrat choisi. Ledit procédé permet de déposer des phosphores électroluminescents bleus en couche mince présentant un pouvoir lumineux élevé et des couleurs adaptés à des applications TV.
Acchione Joe
Cool Stephen Charles
Kosyachkov Alexander
Pugliese Vincent Joseph Alfred
Ifire Ip Corporation
Sim & Mcburney
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1676893