Process for the fabrication of a phase mask for optical...

C - Chemistry – Metallurgy – 03 – B

Patent

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C03B 37/075 (2006.01) C03C 25/00 (2006.01) G03F 1/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01)

Patent

CA 2401111

The invention relates to a process for the fabrication of an optical fiber-processing phase mask that is reduced in terms of pitch variations on the mask and stitching errors, and provides a process for the fabrication of a chirped type optical fiber-processing phase mask wherein a grating form of grooves provided in one surface of a quartz substrate is configured as an optical fiber-processing grating pattern. At an exposure step, writing data obtained by arranging and compiling a plurality of data for a repetitive groove-and-strip pattern while the pitch of repetition is modulated are used and an electron beam resist is provided on a phase mask blank, so that writing is carried out all over the writing area on said phase mask blank continuously in a vertical direction to said grating form of grooves.

L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un masque de phase pour le façonnage de fibres optiques qui réduit les variations de pas sur le masque et les défauts de couture et qui fournit un procédé de fabrication d'un masque de phase pour le façonnage de fibres optique à fluctuation de longueur d'onde dans lequel une forme en réseau d'entailles aménagée sur une surface d'un substrat en quartz est configurée comme un modèle de réseau de façonnage de fibres optiques. € une étape d'exposition, des données d'écriture, obtenues en réorganisant et en compilant un ensemble de données par modèle répétitif de bandes et de rainures, au fur et à mesure que le pas de répétition est modulé, sont utilisées et une réserve de faisceau d'électrons est fournie sur un blanc de masque de phase, afin que l'écriture soit transportée sur toute la zone d'écriture de ce blanc de masque de phase d'une manière continue dans le sens vertical vers la forme en réseau d'entailles.

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Profile ID: LFCA-PAI-O-1951857

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