Reactive deposit of oxides

Details Reactive deposit of oxides Reactive deposit of oxides

C - Chemistry, Metallurgy

03

C

32/24, 117/74, 2

C03C 17/22 (2006.01) B05D 3/06 (2006.01) C03C 17/245 (2006.01) C23C 14/00 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01)

Patent

CA 1093910

ABREGE DESCRIPTIF La présente invention concerne notamment un procédé pour revêtir un substrat isolant d'une couche d'oxyde d'au moins un mètal. Le procédé selon l'invention consiste à recouvrir ledit substrat iso?ant d'une couche d'oxyde par déposition ionique réactive en atmosphére raréfiée d'oxygéne, ladite déposi- tion étant effectuée à partir d'au moins une source métal- lique évaporée par un faisceau électronique. De maniére avantageuse, le faisceau électronique est généré par un canon à electron à cathode froide et à décharge lumines- cente. Le procédé selon l'invention peut s'appliquer notamment au revêtement de substrats transparents par des couches d'oxydes transparentes et conductrices.

265743

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