C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
C
C03C 17/245 (2006.01) C03C 17/00 (2006.01)
Patent
CA 2198788
The invention relates to an apparatus for highly uniform deposition and formation of thin film coatings for optical lenses, such as anti-reflective or anti-glare coatings, using magnetron sputtering technology. A sputter assembly is diclosed for use in a vacuum sputtering apparatus for coating an optical lens, which assembly comprises sputtering means for sputtering coating material over a surface of the lens and a drive means for effecting reciprocating movement of the sputtering means such that in operation the drive means enables the sputtering means to apply a substantially uniform coat of the material over the surface.
Appareil destiné à la formation et au dépôt très uniforme de revêtements en couches minces pour lentilles optiques, comme une couche antiréfléchissante ou antireflets, grâce à une technologie de pulvérisation au magnétron. Un ensemble de pulvérisation est décrit pour utilisation dans un appareil de pulvérisation sous vide servant à revêtir une lentille optique. Cet ensemble comprend un dispositif servant à pulvériser un produit de revêtement sur une surface de la lentille, ainsi qu'un mécanisme d'entraînement d'un mouvement de va-et-vient de l'appareil de pulvérisation. De cette façon, le mécanisme d'entraînement permet à l'appareil de pulvérisation d'appliquer une couche essentiellement uniforme de produit sur la surface.
Plante Daniel
Ridout & Maybee Llp
Sunayama Mankichi
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1796562