C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 59/32 (2006.01) C08G 59/38 (2006.01) C08G 59/42 (2006.01) C09D 163/00 (2006.01) H01B 3/40 (2006.01) H01B 7/00 (2006.01) H01B 13/00 (2006.01)
Patent
CA 2334824
The resin system comprises at least two components which can be stored separately and crosslinked with one another at room temperature, preferably without curing accelerators. The first component comprises at least one compound of the formula (I) (see formula I) where A is an unsubstituted or substituted aromatic radical. The second component comprises at least one cyclic anhydride of an organic acid. However, the compound of the formula (I) here is not a compound of the formula (II) (see formula II) where m = 1 or 2, if the cyclic anhydride is a compound of the formula (III) (see formula III) where A is a carbonyl radical, or has the formula (see formula IV) where each radical R o is a hydrogen atom or halogen atom, a hydroxyl radical or a C1-C5-alkyl radical or an alkoxy radical, or a C1-C5-alkyl-substituted oxycarbonyl radical, and R' and R", independently of one another, are hydrogen atoms or halogen atoms, C1-C5-alkyl groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfonyl groups or amino groups.
L'invention concerne un système résine contenant au moins deux composantes susceptibles de stockage et réticulables ensemble, de préférence, sans accélérateur de durcissement à température ambiante. La première composante contient au moins un composé de la formule générale (I) où A représente un reste aromatique éventuellement substitué. La deuxième composante contient au moins un anhydride cyclique d'un acide organique. Toutefois, le composé de la formule (I) n'est pas un composé de la formule (II) où m vaut 1 ou 2 si l'anhydride cyclique représente un composé de la formule (III), où A représente un reste carbonyle, ou bien de la formule (IV), où chaque reste R<o> représente individuellement un atome d'hydrogène ou d'halogène, un reste hydroxy ou alkyle C1-C5 ou un reste alcoxy ou un reste oxocarbonyle substitué par un groupe alkyle C1-C5, et R' et R'' représentent, indépendamment l'un de l'autre, des atomes d'hydrogène ou d'halogène, des groupes alkyle C1-C5, nitro, carboxyle, sulfonyle ou amino.
Foerster Stefan
Rocks Jens
Vohwinkel Friedrich
Abb Corporate Research Ltd.
Abb Schweiz Ag
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
Resin system does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Resin system, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Resin system will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1664112