C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
C
C03C 3/04 (2006.01) C03C 3/06 (2006.01) C03C 3/062 (2006.01) C03C 3/112 (2006.01) C03C 4/00 (2006.01) C03C 4/12 (2006.01) C03C 13/04 (2006.01) H01S 3/17 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
Patent
CA 2367253
These glasses incorporate a combination of F and Al2O3 to achieve even wider fluorescence and improved gain flatness. In addition, SPCVD incorporates large amounts of N into low-loss fiber whose high charge has an impact on rare earth behavior. The Surface Plasma Chemical Vapor Deposition (SPCVD) produces fiber preforms with high levels of F, Al2O3, and N. These heavily fluorinated glasses provide much broader Er3+ emission than Type I or Type II silica for enhanced multichannel amplifiers. SPCVD successfully fluorinates silica with losses below 5 dB/km and increased Er3+ emission width.
Les verres de l'invention contiennent une combinaison de F et Al¿2?O¿3? pour obtenir une fluorescence encore plus large et une meilleure planéité du gain. De plus le dépôt par plasma en surface (SPCVD) comprend de grandes quantités de N dans une fibre à faible perte dont la charge élevée a un impact sur le comportement des terres rares. Le dépôt par plasma en surface (SPCVD) produit des préformes de fibres aux niveaux élevés de F, Al¿2?O¿3? et N. Ces verres fortement fluorés produisent une émission Er?3+¿ beaucoup plus large que la silice de type I ou type II pour des amplificateurs multicanaux perfectionnés. Le SPCVD fluore avec succès la silice avec des pertes inférieures à 5 dB/km et une largeur d'émission Er?3+¿ accrue.
Dejneka Matthew J.
Khrapko Rostislav
Corning Incorporated
Gowling Lafleur Henderson Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2078375