C - Chemistry – Metallurgy – 07 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
K
C07K 5/078 (2006.01) A61K 38/05 (2006.01) A61K 38/12 (2006.01) A61K 38/15 (2006.01) A61P 31/04 (2006.01) A61K 38/00 (2006.01)
Patent
CA 2376698
The invention concerns derivatives of group A of streptogramins of general formula (I) wherein: R¿1? represents a halogen atom or an azido or thiocynato radical; R¿2? represents a hydrogen atom or a methyl or ethyl radical; R¿3? represents a hydrogen atom, or the radical of an aliphatic, cycloaliphatic, aromatic, araliphatic, heterocyclic or heterocylclylaliphatic ester capable of being substituted, and the bond <u>---</u>represents a single bond (stereochemistry 27R) or a double bond, and their salts when they exist.
Dérivés du groupe A des streptogramines de formule générale (I) dans laquelle: R1 représente un atome d'halogène ou un radical azido ou thiocyanato; R2 représente un atome d'hydrogène ou un radical méthyle ou éthyle; R3 représente un atome d'hydrogène, ou le reste d'un ester aliphatique, cycloaliphatique, aromatique, araliphatique, hétérocyclique ou hétérocyclylaliphatique pouvant être substitué, et la liaison <u>---</u> représente une liaison simple (stéréochimie 27R), ou une liaison double, ainsi que ses sels lorsqu'ils existent.
Achard Daniel
Bacque Eric
Barriere Jean-Claude
Bouquerel Jean
Desmazeau Pascal
Aventis Pharma S.a.
Novexel
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1591166