C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 237/28 (2006.01) A61K 31/502 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01)
Patent
CA 2757859
The subject of the present invention is compounds corresponding to the formula (I) in which: X represents a divalent (C2-C5)alkylene radical which is unsubstituted or substituted one or more times by an Alk group; R1 represents a phenyl, a naphthyl, a pyridyl, a 1-benzothienyl or a 1,3-benzodioxolyl; R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an Alk group, an OAlk group or else a group chosen from -S-Alk, -SO-Alk, -SO2-Alk, -CO-N(R4)-Alk, -N(R4)SO2-Alk, -N(R4)CO-Alk, -N(R4)SO2-N(Alk)2; R3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an Alk group or an OAlk group; R4 represents a hydrogen atom or a (C1-C4)alkyl; Alk represents an unsubstituted or substituted (C1-C4)alkyl. Preparation process and therapeutic application.
La présente invention a pour objet des composes répondant à la formule (I) dans laquelle : X représente un radical bivalent (C2-C5)alkylène non substitué ou substitué une ou plusieurs fois par un groupe Alk; R1 représente un phényle, un naphtyle, un pyridyle, un 1-benzothiényle ou un 1,3-benzodioxolyle; R2 représente un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un groupe Alk, un groupe OAIk ou bien un groupe choisi parmi -S-AIk, -SO-AIk, -SO2-Alk, -CO-N(R4)-Alk, -N(R4)SO2-Alk, -N(R4)CO-AIk, - N(R4)SO2-N(AIk)2; R3 représente un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un groupe AIk, un groupe OAIk; R4 représente un atome d'hydrogène ou un (C1-C4)alkyle; AIk représente un (C1-C4)alkyle non substitué ou substitué. Procédé de préparation et application en thérapeutique.
Barbagallo Elodie
Legeay Carole
Rinaldi-Carmona Murielle
Roux Pascale
Vernhet Claude
Robic
Sanofi
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1722837