C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
C
C03C 17/38 (2006.01) B32B 17/10 (2006.01) B65D 85/48 (2006.01) B65G 49/06 (2006.01) C03C 17/42 (2006.01)
Patent
CA 2583174
The present invention in some embodiments provides sputter deposition techniques for applying thin film and thereafter applying over the sputtered film a temporary protective film. The thin film can optionally be applied by sputtering a target in a gaseous sputtering atmosphere containing an oxidizing gas and/or an inert gas. The invention in some embodiments relates to an insulating glazing unit or a monolithic pane having a thin film coating, deposited for example by sputtering, on at least one major surface, the thin film coating carrying a temporary protective film. The invention also provides embodiments involving high efficiency methods for producing such products.
Cette invention concerne, dans certains modes de réalisation, des techniques de dépôt par pulvérisation permettant d'appliquer une couche mince puis à appliquer sur la couche pulvérisée une couche de protection temporaire. La couche mince peut éventuellement être appliquée par pulvérisation d'une cible dans une atmosphère de pulvérisation gazeuse contenant un gaz oxydant et/ou un gaz inerte. Cette invention, dans certains modes de réalisation, concerne une unité de vitrage isolant ou un carreau monolithique comportant un revêtement en couche mince déposé par exemple par pulvérisation, sur au moins une surface principale, lequel revêtement en couche mince comprend une couche de protection temporaire. Cette invention concerne également des modes de réalisation faisant intervenir des procédés hautement efficaces de production de tels produits.
Grommesh Robert
Krisko Annette
Borden Ladner Gervais Llp
Cardinal Cg Company
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1575718