C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
C
C03C 17/36 (2006.01) C23C 14/18 (2006.01)
Patent
CA 2477845
The invention provides thin film coatings that have a transparent base layer. For example, the invention provides low-emissivity coatings with a transparent base layer. In certain embodiments, a silicon dioxide base layer is used. Methods of producing thin film coatings having a transparent base layer are provided as well. In one embodiment, sputter deposition is utilized to produce these coatings.
L'invention concerne des revêtements à couches minces qui présentent une couche de base transparente. Par exemple, l'invention concerne des revêtements à pouvoir émissifs faibles et à couche de base transparente. Dans certains modes de réalisation, une couche de base en dioxyde de silicium est utilisée. L'invention concerne également des procédés de production desdits revêtements à couches minces présentant une couche de base transparente. Dans un mode de réalisation, une pulvérisation peut être utilisée pour produire lesdits revêtements.
Hartig Klaus
Krisko Annette J.
Cardinal Cg Company
Sim & Mcburney
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1775925