C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23C 14/22 (2006.01) C23C 16/26 (2006.01) C23C 28/00 (2006.01) C23C 30/00 (2006.01)
Patent
CA 2686445
Vacuum treatment unit and vacuum treatment process for carrying out a plasma process, wherein the treatment is carried out in a vacuum chamber (1) in which an apparatus for producing an electric low-voltage arc discharge (15) (LVAD), comprising a cathode (10) and an anode (13) which can be electrically connected to the cathode via an arc generator, and a workpiece support (7) for accommodating and moving workpieces (2) which can be electrically connected to a bias generator (16) and also at least one feed line (8) for inert and/or reactive gas are arranged. Here, at least part of the surface of the anode is made of graphite and is operated at high temperature.
La présente invention concerne une installation et un procédé de traitement sous vide permettant la mise en oeuvre d'une méthode au plasma, le traitement étant réalisé dans une chambre à vide (1) dans laquelle se trouvent : un dispositif destiné à produire un arc de décharge électrique basse tension (15) (NVBE) et comprenant une cathode (10) et une anode (13) pouvant être connectée électriquement à la cathode par un générateur d'arc; un support de pièce (7) qui peut être connecté électriquement à un générateur de polarisation (16) et sert à prendre en charge et à mettre en mouvement des pièces (2); ainsi qu'au moins une conduite d'amenée (8) destinée à un gaz inerte et/ou réactif. Selon l'invention, au moins une partie de la surface de l'anode est réalisée en graphite et fonctionne à température élevée.
Hanselmann Barbara
Kasemann Stephan
Massler Orlaw
Pimenta Marcelo Dornelles
Ramm Juergen
Kirby Eades Gale Baker
Oerlikon Trading Ag Truebbach
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1643387