H - Electricity – 01 – L
Patent
H - Electricity
01
L
H01L 21/00 (2006.01) C11D 3/16 (2006.01) C11D 3/43 (2006.01) C11D 7/22 (2006.01) C11D 7/50 (2006.01) C23G 1/00 (2006.01) G03F 7/42 (2006.01) H01L 21/3213 (2006.01)
Patent
CA 2591483
Back end photoresist strippers and cleaning compositions of this invention are provided by amino acid-free, non-aqueous cleaning compositions that are essentially non-corrosive toward copper as well as aluminum and that comprise at least one polar organic solvent, at least one hydroxylated organic amine, and at least one corrosion inhibitor compound with multiple hydroxyl functional groups that is a compound of the formula: T1-[(CR1R2)m-(CR3R4)n]p- (CR5R6)q-T2 where at least one of R1 and R2 OH and if one of R1 and R2 is not OH, it is selected from H, alkyl or alkoxy, m is a whole integer of 1 or greater,R3 and R4 are selected from H, alkyl or alkoxy, n is 0 or a greater whole positive integer, p is a whole integer of 1 or greater; at least one of R5 and R6 is OH and if one of R5 and R6 is not OH, it is selected from H, alkyl or alkoxy, q is a whole integer of 1 or greater; T1 and T2 are selected from H, alkyl, hydroxyalkyl, polyhydroxyalkyl, aminoalkyl, carbonylalkyl or amide groups or T1 and T2 may be connected forming a structure selected from an aliphatic cyclic or fused cyclic structure, and optionally one or more of hydroxyl-containing co-solvent, corrosion inhibiting aryl compound containing two or more OH, OR6, and/or SO2R6R7 groups bonded directly to the aromatic ring, where R6, R7 and R8 are each independently selected from the group consisting of alkyl and aryl, metal complexing agent, a different metal corrosion inhibiting compound, and surfactant.
La présente invention propose des décapants et des compositions de résine photosensible finaux sous forme de compositions de nettoyage dépourvues d~acides aminés et non aqueuses. Ces compositions sont sensiblement non corrosives envers le cuivre ainsi que l~aluminium et comprennent au moins un solvant organique polaire, au moins une amine organique hydroxylée et au moins un composé inhibiteur de la corrosion avec de multiples groupes fonctionnels hydroxyle. Ledit composé répond à la formule : T1-[(CR1R2)m-(CR3R4)n]p-(CR5R6)q-T2 où au moins un parmi R1 et R2 est OH et si un parmi R1 et R2 n~est pas OH, il est sélectionné parmi H, un alkyle ou un alcoxy, m est un nombre entier valant 1 ou plus, R3 et R4 sont sélectionnés parmi H, un alkyle ou un alcoxy, n vaut 0 ou un nombre entier positif supérieur, p est un nombre entier valant 1 ou plus ; au moins un parmi R5 et R6 est OH et si un parmi R5 et R6 n~est pas OH, il est sélectionné parmi H, un alkyle ou un alcoxy, q est un nombre entier valant 1 ou plus ; T1 et T2 sont sélectionnés parmi H, des groupes alkyle, hydroxyalkyle, polyhydroxyalkyle, aminoalkyle, carbonylalkyle ou amide ou bien T1 et T2 peuvent être reliés en formant une structure sélectionnée parmi une structure cyclique aliphatique ou cyclique fusionnée, et facultativement un ou plusieurs parmi un cosolvant contenant un hydroxyle, un composé arylique inhibiteur de la corrosion contenant deux ou plusieurs groupes OH, OR6, et/ou SO2R6R7 liés directement au cycle aromatique, où R6, R7 et R8 sont chacun indépendamment sélectionnés dans le groupe consistant en alkyle et aryle, un agent complexant métallique, un composé inhibiteur de la corrosion métallique différent et un agent tensioactif.
Avantor Performance Materials Inc.
Mallinckrodt Baker Inc.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1610224