Formation process of a deposited film containing silica on a...

C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C

Patent

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C03C 17/02 (2006.01) C03C 17/00 (2006.01) C03C 17/245 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01) C23C 16/453 (2006.01)

Patent

CA 2074964

On forme un dépôt d'une couche à base de silice sur une surface d'un objet en verre en projetant sur une surface chaude de l'objet, en atmosphère ambiante non confinée, un mélange gazeux ayant une teneur en silane inférieure à 2%, une teneur en oxygène comprise entre 3,5 et 30%, et avantageusement une teneur en hydrogène inférieure à 5%. La surface de l'objet à traiter est avantageusement chauffée juste avant son passage au poste d'injection. L'invention convient notamment pour la formation de couches barrières anti- migration, en particulier de sodium sur les verres sodo-calciques, et résulte en une augmentation de la résistance de l'objet en verre aux milieux alcalins, notamment aux produits détergents, permettant d'effectuer de façon simple et particulièrement souple des dépôts de qualité sur un grand nombre d'objets en verre et autorisant de ce fait des coûts d'installation et de production notablement réduits.

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