B - Operations – Transporting – 81 – C
Patent
B - Operations, Transporting
81
C
B81C 1/00 (2006.01)
Patent
CA 2752733
The invention relates to a method for making microchannels on a substrate, and to a substrate including such microchannels, which can particularly be used in the production of microstructured substrates for microelectronic, microfluidic and/or micromechanical systems. The method includes a step of (a) making at least one or at least two patterns (2) on the surface of a lower layer (1), and a step (b) of depositing, onto the lower layer and the pattern(s), a layer (3) of a polymer material produced by polymerisation in an optionally remote plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor (PECVD, optionally RPECVD) of an organic or organometallic monomer with siloxane functions, e.g. tetramethyldisiloxane. The layer of polymer material is deposited so as to create, in the place of the pattern and after the decomposition of said pattern, or between two patterns without development-decomposition, a channel (4a, 4b, 4c, 4d), which is closed on at least a portion of the length thereof.
La présente invention concerne un procédé de fabrication de microcanaux sur un support, et un support comprenant ces microcanaux, trouvant notamment son application à la fabrication de supports microstructurés pour des systèmes microéiectroniques, microfluidiques, et/ou micromécaniques. Le procédé comprend une étape (a) de réalisation d'au moins un ou d'au moins deux motifs 2 à ia surface d'une couche inférieure 1, et une étape (b) de dépôt, par-dessus la couche inférieure et le motif ou les motifs, d'une couche 3 en matériau polymère obtenue par polymérisation, dans un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur assisté, éventuellement à distance, par plasma (PECVD, éventuellement RPECVD), d'un monomère organique ou organométallique comprenant des fonctions siloxanes, par exemple du tétraméthyldisiloxane. La couche en matériau polymère est déposée en sorte de créer, à la place du motif et après révélation par décomposition de ce motif, ou entre les deux motifs sans révélation-décomposition, un canal 4a, 4b, 4c, 4d fermé sur au moins une partie de sa longueur.
Abbas Abdennour
Bocquet Bertrand
Guillochon Didier
Supiot Philippe
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Universite Des Sciences Et Technologies de Lille
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1438114