C - Chemistry – Metallurgy – 03 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
B
C03B 37/014 (2006.01) H05H 1/34 (2006.01)
Patent
CA 2635645
The plasma torch (40) for making synthetic silica includes use of nitrogen screen gas from outer quartz tubing (53) to provide active environment isolation. In addition, the present induction plasma torch (40) includes ring disks (66, 70) for more compact but complete environmental protection (360 degree coverage) . It also includes offsetting and switching the position of the chemical injection nozzles (68) for allowing improved deposition in both directions, when operated in a horizontal mode. Further, the present induction plasma torch (40) maintains laminar flow for the injected chemicals and the middle quartz tube (154) is provided with a concave section (157) for increasing the average enthalpy of plasma jet, thus improving the efficiency of the plasma torch. In addition, it may utilize more plasma gas inlets (76) . It also includes chemical injection nozzles (68) having a downward angular inclination.
La présente invention concerne un chalumeau à plasma amélioré pour la fabrication de silice synthétique utilisant un gaz de protection à base d'azote provenant d'un tube de quartz pour fournir une isolation environnementale active. En outre, le chalumeau à plasma à induction selon la présente invention comporte un disque annulaire pour une protection environnementale plus compacte mais complète (couverture de 360 degrés). Il comporte également le décalage et la commutation de la position des buses d'injection de produits chimiques pour permettre un dépôt amélioré dans les deux sens, lors de son fonctionnement dans un mode horizontal. Par ailleurs, le chalumeau à plasma à induction selon la présente invention maintient un flux laminaire pour le produits chimiques injectés et le tube de quartz médian est doté d'une section concave pour accroître l'enthalpie moyenne du jet de plasma, améliorant ainsi l'efficacité du chalumeau à plasma. En outre, il peut utiliser un plus grand nombre d'orifices d'entrée de gaz plasma. Il comporte également des buses d'injection de produits chimiques présentant une inclinaison angulaire vers le bas.
Aslami Mohd A.
Guskov Mikhail I.
Wu Dau
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Silica Tech Llc
LandOfFree
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