Procedure for manufacturing a microelectromechanical optical...

B - Operations – Transporting – 81 – B

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B81B 3/00 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) G02B 6/35 (2006.01) G02B 26/08 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G02B 6/26 (2006.01) G02B 6/36 (2006.01)

Patent

CA 2394108

Procédé de fabrication d'un composant optique microélectromécanique (1), réalisé à partir d'un de substrat de silicium, comprenant : .cndot. des guides de propagation optique (2-5); .cndot. une paroi mobile (6) par rapport aux guides de propagation (2-5); .cndot. un actionneur électrostatique (10) associé à des moyens de rappel formés par au moins une poutre (15, 16), apte à provoquer le déplacement de la paroi mobile (6) par rapport au reste du substrat Conformément à l'invention, .cndot. le substrat utilisé est en silicium monocristallin dont les plans cristallographiques (111) sont parallèles au plan du substrat ; .cndot..cndot. le procédé comporte une première série d'étapes de gravure ionique réactive profonde pendant lesquelles, sont définies, avec des valeurs différentes, les hauteurs de la paroi mobile (6), des électrodes de l'actionneur (11, 12), et des poutres ( 15, 16) des moyens de rappel de l'actionneur; .cndot. le procédé comporte une seconde étape de gravure humide, permettant de libérer la paroi mobile (6), les électrodes (11, 12) et les poutres (15, 16) du reste du substrat.

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